Nd：YAG和Nd：YVO4激光倍頻成分

Nd：YAG和Nd：YVO4激光2倍頻成分

Nd：YAG和Nd：YVO4激光器的諧波廣泛用于材料加工和測量應用。 此外，Nd：YAG激光器的二次諧波通常用作Ti：藍寶石激光器的泵浦源。 在這些頁面上，我們引入了532nm的光學器件：雙波長反射鏡，分離器，薄膜偏振器和非偏振分束器，還包括不同配置的緊湊型二極管泵浦激光器的腔體光學器件。 所有設計均按客戶要求計算。

圖1：泵浦波長（808nm）具有高透射率的雙波長腔鏡的反射光譜（a）

和雙波長轉向鏡（b）

圖2：來自地面波長的2倍頻的分離器的反射光譜：

（a）：HR（0°，1064nm）> 99.9％+ R（0°，532 + 808nm）<3％

（b）：HRs + p（45°，532nm）> 99.9％+ Rs + p（45°，808 + 1064nm）<2％

圖3：532nm的薄膜偏振器（a）和非偏振分光鏡（b）的反射光譜，

Rs = Rp = 50±2％（| Rs-Rp | <3％）

用于p偏振光的薄膜偏振器的傳輸可以通過改進的空腔環(huán)形降低設置以高精度測量。

圖4：二次諧波和地波（a）的三次諧波分離器和355nm和532nm雙波長轉向鏡的反射光譜（b）

對于紫外光譜范圍內諧波的分離器的常規(guī)規(guī)格，請參見本的表格。 請立即與我們分離器或具有其他發(fā)生角度的鏡子。

圖5：1064nm的HR鏡的反射光譜，其也是532nm的輸出耦合器：HR（0°，1064nm）> 99.9％+ R（0°，532nm）= 99％

非線性光學晶體上的涂層

非線性光學晶體是變頻的關鍵要素。 LAYERTEC在晶體上提供各種涂層，如KTP和鈮酸鋰

圖6：532nm和1064nm的KTP上雙重抗反射涂層的反射光譜

Nd：YAG和Nd：YVO4激光3倍頻成分

Nd：YAG和Nd：YVO4激光器的3倍頻在材料加工以及測量應用領域以及作為光參量振蕩器的泵浦源方面日益重要。 在這些頁面上，我們引入了355nm的光學器件：單波長鏡和多波長鏡，分離器，薄膜偏振器和抗反射涂層。 所有設計均按客戶要求計算。

圖1：用于法向入射（a）和轉向鏡（b）的單波長鏡的反射光譜

圖2：355nm和532nm（a）的雙波長轉向鏡的反射光譜

的波長轉向鏡為355nm，532nm和1064nm（b）

圖3：來自2倍頻和地面波長的3倍頻分離器的反射光譜：

（a）：標準型

（b）：對于1064nm的低反射率而特別優(yōu)化的分離器

對于紫外光譜范圍內諧波的分離器的常規(guī)規(guī)格，請參見本的表格。

請立即與我們分離器或具有其他發(fā)生角度的鏡子。

圖4：2倍頻和地面波長3倍頻特殊分離器的反射光譜：

（a）氟分離器HR（45°，355nm）> 95％+ Rp（45°，532nm）<2％+ Rs，p（45°，1064nm）<2％

（b）HR（45°，532nm）> 99.8nm + R（45°，355nm）<5％

氟分離器在高功率密度下顯示出延長的使用壽命。

圖5：355nm薄膜偏光片的反射光譜：HR（55°，355nm）> 99％+ Rp（55°，355nm）<5％

可以通過角度調整來優(yōu)化p偏振光的透射。 將偏振器傾斜±2°將Rp的小值偏移到更長或更短的波長，這可以顯著提高偏振率。

圖6：用于355nm的單波長AR涂層的反射光譜針對AOI = 0°-30°（a）和

在355nm，532nm和1064nm的熔融二氧化硅上的三重波長抗反射涂層。

Nd：YAG和Nd：YVO4激光器高次倍頻成分

Nd：YAG和Nd：YVO4激光器的倍頻廣泛用于材料加工和測量應用。 在這些頁面上，我們?yōu)榈谒模?66nm）和第五倍頻（213nm）引入雙波長鏡和隔離器。 所有設計均按客戶要求計算。

圖1：266nm和355nm（a）的雙波長轉向鏡的反射反射光譜和來自長波長倍頻和地面波長（b）的四次倍頻的分離器

圖2：來自長波長倍頻和地面波長（b）的五次倍頻（a）轉向鏡和五次倍頻分離器的測量反射光譜; CaF2上的氟化涂層

表1：紫外線倍頻分離器的通用規(guī)格

* CaF2上的氟涂層

圖3：來自第四倍頻的二次倍頻的分離器的反射光譜：

（a）：HR（0°，532nm）> 99.5％+ R（0°，266nm）<10％（后側未涂布）

（b）：HR（0°，532nm）> 99.9％+ R（0°，266nm）<5％（后側未涂布）

266nm的組件通常通過電子束蒸發(fā)產(chǎn)生。 這些涂層表現(xiàn)出高的損傷閾值，但可見光譜范圍內的反射率限制在> 99.5％（見圖3a）。 近關于紫外線濺射涂層的研究結果表明，可以產(chǎn)生在VIS中具有顯著改善的反射率的分離器，其在UV中具有相似的性質（參見圖3b）。

圖4：第四和第五倍頻分離器的反射光譜：

對于非偏振光，HRr（45°，266nm）> 98％+ Rr（45°，213nm）<10％

a）為低雜散損耗而優(yōu)化的氧化物涂層（背面未涂層）

b）氟化物涂層，用于高激光誘發(fā)損傷閾值（背面未涂層）

因為氧化鋁的吸收邊緣在這個波長范圍內開始，所以在213nm處的五次倍頻是氧化物涂層的關鍵波長。 對于高功率應用，我們建議根據(jù)ArF準分子激光鏡技術生產(chǎn)的氟化鈣氟涂層。

薄膜偏光鏡

圖5：266nm（a）和213nm（b）的薄膜偏振器的反射光譜：

a）HR（56°，266nm）> 98％+ Rp（56°，266nm）<1％

b）HR（56°，213nm）> 97％+ Rp（56°，213nm）<5％;

請注意，由于上述的失血損失，Tp只有75％左右

磁控濺射使我們能夠為Nd：YAG激光器的第四和第五倍頻提供薄膜偏振器。